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磁控濺鍍法製備氧化鋁氧化釔薄膜及其性質之研究 = = Al2O3 – ...
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陳維容
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磁控濺鍍法製備氧化鋁氧化釔薄膜及其性質之研究 = = Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering /
紀錄類型:
書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:
磁控濺鍍法製備氧化鋁氧化釔薄膜及其性質之研究 = / 陳維容撰
其他題名:
Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering /
其他題名:
Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering
作者:
陳維容
出版者:
[花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, : 民93[2004],
面頁冊數:
15,97面 : 圖,表 ; 30公分
附註:
指導教授︰郭東昊
標題:
介電常數 -
電子資源:
http://134.208.10.124/ETD-db/ETD-search-c/view_etd?URN=etd-0613104-215015PDF全文
磁控濺鍍法製備氧化鋁氧化釔薄膜及其性質之研究 = = Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering /
陳維容
磁控濺鍍法製備氧化鋁氧化釔薄膜及其性質之研究 =
Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering / Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering陳維容撰 - [花蓮縣] : 國立東華大學材料科學與工程學系, 民93[2004] - 15,97面 : 圖,表 ; 30公分
指導教授︰郭東昊
碩士論文--國立東華大學材料科學與工程學系,2004
參考書目︰面94-95Subjects--Topical Terms:
2418087
介電常數
磁控濺鍍法製備氧化鋁氧化釔薄膜及其性質之研究 = = Al2O3 – Y2O3 Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering /
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五樓論文區 (5F Theses & Dissertations)
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卷號:
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03.不外借_N
本校碩士論文
T 440.3 7523
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