電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = ...
陳彥儒

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  • 電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
  • 紀錄類型: 書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
    正題名/作者: 電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =/ 陳彥儒撰
    其他題名: Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
    其他題名: Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting
    作者: 陳彥儒
    其他作者: 徐裕奎
    出版者: 花蓮縣 :光電工程學系, : 2018,
    面頁冊數: 51面 :圖,表 ;30公分
    附註: 校內電子全文開放日期 2019/08/28
    標題: N型氧化亞銅 -
    電子資源: http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610525007.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)
館藏地:  出版年:  卷號: 
館藏
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GE0178464 五樓論文區 (5F Theses & Dissertations) 03.不外借_N 本校碩士論文 T 336 7502.1 2018 一般使用(Normal) 在架 0
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