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電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = ...

陳彥儒

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博客來

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /

紀錄類型:	書目-語言資料,印刷品 : Monograph/item
正題名/作者:	電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =/ 陳彥儒撰
其他題名:	Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
其他題名:	Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting
作者:	陳彥儒
其他作者:	徐裕奎
出版者:	花蓮縣 :光電工程學系, : 2018,
面頁冊數:	51面 :圖,表 ;30公分
附註:	校內電子全文開放日期 2019/08/28
標題:	N型氧化亞銅 -
電子資源:	http://134.208.29.108/cgi-bin/gs32/gsweb.cgi?o=dstdcdr&s=G0610525007.id&searchmode=basic電子全文(依作者授權而定)

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
陳彥儒

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 =Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting陳彥儒撰 - 花蓮縣 :光電工程學系, 2018 - 51面 :圖,表 ;30公分

校內電子全文開放日期 2019/08/28

碩士論文--國立東華大學光電工程學系

含參考書目Subjects--Topical Terms:

3323756
N型氧化亞銅

電化學沉積之鎳參雜與熱處理N型氧化亞銅薄膜應用於光電化學產氫之研究 = = Electrochemical Deposition of Nickel Doped and Annealing n-type Cuprous Oxide Films for Photoelectrochemical Water splitting /
LDR:01188nam a2200241 450 001 2140492
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260 # $a 花蓮縣 : $b 光電工程學系, $c 2018
300 $a 51面 : $b 圖,表 ; $c 30公分
500 $a 校內電子全文開放日期 2019/08/28
500 $a 校外電子全文開放日期 2019/08/28
500 $a 國圖全文開放日期 2019/08/28
500 $a 畢業學年度: 106
500 $a 指導教授: 徐裕奎
502 $a 碩士論文--國立東華大學光電工程學系
504 $a 含參考書目
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650 0 0 $a 熱處理 $2 csht $3 2363891
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